据运田金属公司了解，靶用钌粉的纯度要求伴随着钌靶应用需求的日益增长，靶用钌粉提纯的研究也备受人们关注。钌粉作为制备钌靶的原材料，其纯度和性质对钌靶的品质有重大影响，行业标准《制备钌靶用钌粉》明确提出了制备硬盘及集成电路行业用钌系溅射靶材的钌粉纯度应在 3N5以上。同时，半导体工艺对钌粉的纯度要求是最高的。对于 0.35 µm 线宽工艺，纯度要求在 4N5 以上；对于 0.25 µm 线宽工艺，纯度要求在 5N 甚至是 6N 以上。粉体中各类杂质元素的含量也有明确的要求，例如钾、钠等碱金属元素要求总含量(质量分数)小于 5×10 -6 ，单个元素含量小于 1×10 -6 ；铁、等重金属元素要求总含量小于 5×10 -6 ，单个元素含量小于 1×10 -6 ； 铀 、 钍 等放射性元素要求总含量小于 10×10 -9 ，单个元素含量小于 5×10 -9 ；碳、氧、氮等气体杂质元素，要求总含量小于 500×10 -6 。另外，粉体的平均粒径要在 50 µm 以下，且粉体为等轴晶粒最佳。