钌粉提纯和钌靶加工面临的问题

据运田金属公司调研显示：

国内钌粉提纯研究的问题在于：1) 纯度普遍偏低，很难将各类杂质元素的含量都控制在靶用钌粉指标之内；2) 高纯粉体的微观形貌和粒度大小的可控性较差，无法择优生长；3) 提纯工艺较为复杂，难以推广到大规模生产中。

国内钌靶加工面临的问题有：1) 靶材的杂质含量较高，杂质对溅射薄膜的综合性能影响大；2) 靶材的致密度不够，溅射过程中容易产生异常放电现象，并影响溅射速率；3) 靶材晶粒尺寸偏大并且均匀性差，使得溅射薄膜的均匀性不理想；4) 靶材制备工艺的稳定性有待提高。

国内企业还需通过工艺优化和技术创新，不断提升钌靶产品性能，形成更强的国际竞争力。