摘要:本文着重介绍了用铱坩埚提拉法生长5英寸钽酸锂(LT)晶体的工艺过程,该工艺使用超大尺寸铱坩埚生长LT晶体;设计了稳定并可调节纵向及径向温度梯度的温场;采用了大量程、高灵敏度的上称重技术;运用逆向模拟法的模拟体设计。这些技术的集成,是5英寸晶体生长成功的必要保证。
关键词:5英寸钽酸锂;上称重;铱坩埚
钽酸锂(LiTaO3,以下简称LT)晶体是一种重要的多功能晶体材料,该晶体具有优良的压电、铁电、声光及电光效应。因而成为声表面波(SAW)器件、光通讯、激光及光电子领域中的基本功能材料。经过抛光的LT晶片广泛用于谐振器、滤波器、换能器等电子通讯器件的制造,尤其以它良好的机电耦合、温度系数等综
合性能而被用于制造高频声表面波器件,并应用在手机、对讲机、卫星通讯、航空航天等许多高端通讯领域。目前,在高频声表器件、2.5G、3G标准下的SAW还没有其它更具有优势的商品化的材料可以替代它。因此,LT晶体也被称为无线通讯中最重要的基础材料之一,市场需求量呈明显增长态势且向大尺寸晶体发展。多年来。由于人们更加关注铌酸锂晶体的非线性及光折变性,似乎忽略了LT晶体技术发展。虽然,数年来有关LT晶体的生长和研究的相关报道文献甚少,仅偶然提及4英寸以上的钽酸锂晶片的需要。据了解,目前国内声表面波器件制造商多以使用3英寸LT晶片为主,甚至还有个别厂商还大量使用2英寸晶片,而国际市场上已经全面使用4英寸LT晶体和晶片并仍有进一步向大尺寸化发展的趋势,国内企业对这种趋势的到来则更寄希望于国内大尺寸LT晶体生长技术与加工技术的成熟。本研究就是建立在这样的时代背景下的技术发展。本文报道了采用上称重提拉法,在铱金坩埚中成功生长五英寸钽酸锂晶体的工艺研究及结果。
LT晶体是一种氧化物晶体,属三方晶系,晶格常数量(a=0.515359nm,c=1.378070nm,其固.液同成份下的摩尔比Li2O:Ta2O5=48.6:51.4,晶体熔点为1650℃,居里温度约590~620℃,一般常用的居里温度约在605℃左右。通常,LT晶体的生长方法为提拉法、下降法、温梯法等,目前工业上多采用提拉法技术生长LT晶体,其优点是:可实现晶体的快速、定向生长,晶体的直径、晶向容易调整,温场容易控制、工艺再现性好引。
LT晶体生长按其相图的要求:按同成份组分准备原料,烧制多晶。
(1)多晶制备:本试验选择Li2CO3(纯度≥99.99%)和Ta2O5(纯度≥99.99%)作为生产原料,按照常规生产进行配料、压块、多晶化焙烧;
(2)辅料准备:本试验选用了氧化锆砂作为铱坩埚外的保温粉,为调整液下梯度,我们选择了从-60~200目不同粒度的锆砂;选用了高铝、刚玉等耐火材料制作外保温系统;
(3)温场设计:本试验采用铱坩埚盛料同时作为发热体,坩埚设计尺寸直径为:坩埚直径/晶体直径≥1.5,高度为:坩埚高度/线圈高度≤0.5;坩埚上置刚玉内罩、外置保温外罩,另有适量保温棉做辅助保温,详见图1;
(4)试验设备、电源及控制:选用30KW中频感应电源加热;感应线圈由l0mm×lmm铜管绕制,线圈匝数20圈、线圈直径380mm;主控温仪表选用欧陆818P精密程序控制器,并配以我们自行设计的上称重系统,传感器选用进口应变片制作;模拟体设计定形;单晶炉为TDL-60型激光晶体炉。所用设备工作原理示意图见图2。
(1)将预先准备的氧化锆保温粉放人刚玉陶瓷坩埚,预埋人做好的保温块,埋人铱金坩埚并将保温粉填实;将焙烧好的多晶块、适量的回炉料放人铱金坩埚,安放调整内、外保温系统,调整籽晶杆,安放测温热偶;
(2)关闭炉门,开启真空泵,抽出炉内空气,充入保护气体;
(3)开启中频电源,调整欧陆818P,设定升温程序,升温至物料熔化,手控稳压恒温;
(4)下降籽晶,仔细观察,选择合适的接种温度,完成下种、引晶等工序;
(5)调整模拟体相对水位,达到稳定同步,切人到上秤生长量给定控制,实现自控扩肩及等径生长;
(6)选择、调整合适的拉速、转速,保持固液界面微突生长,直至晶体生长阶段结束;
(7)拉脱,充人保护气体,启动818P转入程序降温,程序结束后,自动停炉,待炉内温度接近室温时,开启炉门、取出晶体。
(1)退火:晶体生长阶段在晶体内部聚集了热应力和生长应力,为消除内部应力,须进行退火处理。由于晶体尺寸大,受热、散热时问比小尺寸晶体更长,因此退火周期更长将晶体放置在刚玉筒内,使刚玉筒处于退火炉中部等温区,加盏。设定并启动退火炉工作程序,经过长时间、缓慢的升温、恒温、降温,完成晶体的退火;根据经验,升温速率≤50℃/h、降温速率≤30℃/h、最高温度达1350℃,高温段恒温时间不低于10h,整个退火周期8d,直至降至室温,取出晶体。
(2)极化:极化工艺参数的控制是晶体是否能够完全极化的根本条件。对此我们采用了通过温度跟踪测定极化电流最大值的工艺方法,选定了特定炉型下大尺寸晶体的极化温度范围,取得了很好的效果。目前这项工作还在完善过程中。
(3)居里温度测定:通过对LT晶体头、尾切取测试片,在居里温度测试仪中进行测试,确定其居里温度在允许的范围以内,从而确保晶体内部的组份均衡,否则要及时对原料配比作出相应调整。
经过试验前期的充分准备,我们达到了预期的目标。自2004年末至2005年6月底,我们共开炉试验近二十炉,包括测温、熔料、模拟尺寸、测试功率、测试梯度等技术参数测定。其中按生长晶体技术要求的生长试验炉次达11炉,生长完好晶体5炉,晶体晶向为l12。,晶体最大重量达8kg,尺寸达到直径5英寸(短轴127mm、长轴132mm)、晶棒长度大于60mm.等径度良好,见(图3)
首次在国内实现了用铱坩埚、在气氛下生长5英寸的L1晶体并取得成功,实现了在该领域的重大跨越。
通过控制晶体生长转速、拉速,调整坩埚底部保温、预埋氧化锆粒度组成和保温层厚度,可以调整并保持晶体固液界面的微突生长;通过设计合理的上部内、外保温层的厚度、高度,可以调整生长界面和液上及径向温度梯度,控制晶体在稳定、合适的温场环境下生长;通过选用高精度传感器,辅以设计精密、结构合理的上称重机构,确保控制晶体等径生长,试验结果证明,控制效果非常好。
由我们自行设计的坩埚、线圈及保温材料组合的温场系统、合理适用的上称重系统、精确的电源控制系统可以满足较大尺寸LT晶体萌生长,有效减少或消除了晶体中的缺陷。通过试验我们总结出了大尺寸LT晶体生长的技术参数,积累了一定的操作经验,为该产品进军国际市场奠定了技术基础,一旦国际市场出现需求,我们可立即提供样品和批量产品。
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